A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
DIELECTRIC CERAMICS COMPOSITION FOR HIGH FREQUENCY DEVICE METHOD OF CONTROLLING MICROWAVE PROPERTIES OF THE SAME CERAMIC SUBSTRATE THEREBY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
본 발명은 (Al1-xBx)2Mo3O12 세라믹스 조성물과 그의 마이크로파 유전특성의 제어방법, 그리고 그에 의한 세라믹 기판 및 이의 제조방법을 개시한다. 본 발명에 따른 상기 세라믹스 조성물은 대략 3.8~4.2 범위의 낮은 유전율(εr)을 가지면서도, 0.0005~0.004의 낮은 유전손실(tanδ), 10000~50000GHz의 높은 품질계수(Qf), 1.5~4ppm/℃의 낮은 공진주파수 온도계수(τf)의 우수한 마이크로파 유전 특성을 보이므로 고주파 소자용 기판으로서 유망하다. 더구나, 본 발명의 상기 세라믹스 조성물은 대략 800℃ 이하의 저온소성이 가능한 LTCC이므로, 통상의 후막공정으로 제조되고 그 위에 인쇄된 금속전극과 함께 대략 800℃ 이하의 저온에서 동시소성됨으로써 고주파 소자용 기판으로서 매우 유리하게 적용될 수 있다.
DIELECTRIC CERAMICS COMPOSITION FOR HIGH FREQUENCY DEVICE METHOD OF CONTROLLING MICROWAVE PROPERTIES OF THE SAME CERAMIC SUBSTRATE THEREBY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
본 발명은 (Al1-xBx)2Mo3O12 세라믹스 조성물과 그의 마이크로파 유전특성의 제어방법, 그리고 그에 의한 세라믹 기판 및 이의 제조방법을 개시한다. 본 발명에 따른 상기 세라믹스 조성물은 대략 3.8~4.2 범위의 낮은 유전율(εr)을 가지면서도, 0.0005~0.004의 낮은 유전손실(tanδ), 10000~50000GHz의 높은 품질계수(Qf), 1.5~4ppm/℃의 낮은 공진주파수 온도계수(τf)의 우수한 마이크로파 유전 특성을 보이므로 고주파 소자용 기판으로서 유망하다. 더구나, 본 발명의 상기 세라믹스 조성물은 대략 800℃ 이하의 저온소성이 가능한 LTCC이므로, 통상의 후막공정으로 제조되고 그 위에 인쇄된 금속전극과 함께 대략 800℃ 이하의 저온에서 동시소성됨으로써 고주파 소자용 기판으로서 매우 유리하게 적용될 수 있다.
DIELECTRIC CERAMICS COMPOSITION FOR HIGH FREQUENCY DEVICE METHOD OF CONTROLLING MICROWAVE PROPERTIES OF THE SAME CERAMIC SUBSTRATE THEREBY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
고주파 소자용 유전체 세라믹스 조성물 및 이의 마이크로파 유전특성의 제어방법, 그리고 그에 의한 세라믹 기판 및 이의 제조방법
2025-02-04
Patent
Electronic Resource
Korean
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2024
European Patent Office | 2024
| European Patent Office | 2023
European Patent Office | 2024