A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTIONAL FILM, AND LAMINATED WIRING FILM
This sputtering target: includes the metallic elements Mo and/or In and Cu and/or Fe as main components; contains 5-80at% of Mo and/or In and 20-95at% of Cu and/or Fe, and comprises some or all of the metal elements in the form of oxides.
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique qui : comprend les éléments métalliques Mo et/ou In et Cu et/ou Fe en tant que composants principaux ; contient entre 5 et 80 % atomique de Mo et/ou In et entre 20 et 95 % atomique de Cu et/ou Fe, et comprend quelques éléments métalliques ou tous les éléments métalliques sous la forme d'oxydes.
本発明のスパッタリングターゲットは、金属元素として、Ｍｏ及びＩｎのいずれか１種又は２種及びＣｕ及びＦｅのいずれか１種又は２種を主成分とし、Ｍｏ及びＩｎのいずれか１種又は２種：５～８０ａｔ％と、Ｃｕ及びＦｅのいずれか１種又は２種：２０～９５ａｔ％とを含有し、前記金属元素の一部又は全部が酸化物からなる。
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTIONAL FILM, AND LAMINATED WIRING FILM
This sputtering target: includes the metallic elements Mo and/or In and Cu and/or Fe as main components; contains 5-80at% of Mo and/or In and 20-95at% of Cu and/or Fe, and comprises some or all of the metal elements in the form of oxides.
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique qui : comprend les éléments métalliques Mo et/ou In et Cu et/ou Fe en tant que composants principaux ; contient entre 5 et 80 % atomique de Mo et/ou In et entre 20 et 95 % atomique de Cu et/ou Fe, et comprend quelques éléments métalliques ou tous les éléments métalliques sous la forme d'oxydes.
本発明のスパッタリングターゲットは、金属元素として、Ｍｏ及びＩｎのいずれか１種又は２種及びＣｕ及びＦｅのいずれか１種又は２種を主成分とし、Ｍｏ及びＩｎのいずれか１種又は２種：５～８０ａｔ％と、Ｃｕ及びＦｅのいずれか１種又は２種：２０～９５ａｔ％とを含有し、前記金属元素の一部又は全部が酸化物からなる。
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTIONAL FILM, AND LAMINATED WIRING FILM
CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, FILM FONCTIONNEL OPTIQUE ET FILM DE CÂBLAGE STRATIFIÉ
スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜
SAITO ATSUSHI (author) / ZHANG SHOUBIN (author) / SHIONO ICHIRO (author)
2015-12-30
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2022
| European Patent Office | 2017
OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2021
SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM
| European Patent Office | 2021
SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET, AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM
| European Patent Office | 2022