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GALLIUM NITRIDE PARTICLES AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Provided are gallium nitride particles which make it possible to produce a gallium nitride sputtering target having a high density and high strength, have a reduced oxygen content, and have high moldability. A mixed powder of gallium oxide and gallium nitride is reacted with each other at a temperature of 1000 to 1100°C so that the ammonia reaction amount per hour can become a 1-fold molar amount or more greater than the amount of gallium introduced. As a result, gallium nitride particles can be produced, which have an oxygen content of 1 atm% or less and an average primary particle diameter of 5 μm or more, wherein the particle diameters of particles included in a 10% area % as observed from the smallest particle diameter in the particle size distribution (i.e., a 10% particle diameter) is 3 μm or less.
La présente invention concerne des particules de nitrure de gallium qui permettent de produire une cible de pulvérisation cathodique de nitrure de gallium ayant une densité élevée et une résistance élevée, présentant une teneur réduite en oxygène, et une aptitude élevée au moulage. Une poudre mixte d'oxyde de gallium et de nitrure de gallium est mise à réagir à une température de 1 000 à 1 100 °C de sorte que le niveau de réaction d'ammoniac par heure peut atteindre une quantité 1 fois molaire ou plus par rapport à la quantité de gallium introduite. En résultat, des particules de nitrure de gallium peuvent être produites, qui présentent une teneur en oxygène de 1 % atm. ou moins et un diamètre moyen des particules primaires de 5 µm ou plus, les diamètres de particule des particules comprises dans une surface de 10 % telle qu'observée à partir du diamètre le plus petit de particule dans la distribution des tailles de particule (c'est-à-dire, un diamètre de 10 % des particules) est de 3 µm ou moins.
高密度、高強度な窒化ガリウムのスパッタリングターゲットが作製可能な酸素含有量が少なく成形性の高い窒化ガリウム粒子を提供する。 酸化ガリウムと窒化ガリウムの混合粉末を１０００～１１００℃の温度で、時間当たりのアンモニア反応量が投入したガリウム量に対し１倍モル以上の割合になるように反応させることにより、酸素含有量が１ａｔｍ％以下であり、一次粒子の平均粒子径が５μｍ以上であり、粒度分布の最小粒子から１０面積％の範囲の粒子径（１０％粒子径）が３μｍ以下である窒化ガリウム粒子を得る。
GALLIUM NITRIDE PARTICLES AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Provided are gallium nitride particles which make it possible to produce a gallium nitride sputtering target having a high density and high strength, have a reduced oxygen content, and have high moldability. A mixed powder of gallium oxide and gallium nitride is reacted with each other at a temperature of 1000 to 1100°C so that the ammonia reaction amount per hour can become a 1-fold molar amount or more greater than the amount of gallium introduced. As a result, gallium nitride particles can be produced, which have an oxygen content of 1 atm% or less and an average primary particle diameter of 5 μm or more, wherein the particle diameters of particles included in a 10% area % as observed from the smallest particle diameter in the particle size distribution (i.e., a 10% particle diameter) is 3 μm or less.
La présente invention concerne des particules de nitrure de gallium qui permettent de produire une cible de pulvérisation cathodique de nitrure de gallium ayant une densité élevée et une résistance élevée, présentant une teneur réduite en oxygène, et une aptitude élevée au moulage. Une poudre mixte d'oxyde de gallium et de nitrure de gallium est mise à réagir à une température de 1 000 à 1 100 °C de sorte que le niveau de réaction d'ammoniac par heure peut atteindre une quantité 1 fois molaire ou plus par rapport à la quantité de gallium introduite. En résultat, des particules de nitrure de gallium peuvent être produites, qui présentent une teneur en oxygène de 1 % atm. ou moins et un diamètre moyen des particules primaires de 5 µm ou plus, les diamètres de particule des particules comprises dans une surface de 10 % telle qu'observée à partir du diamètre le plus petit de particule dans la distribution des tailles de particule (c'est-à-dire, un diamètre de 10 % des particules) est de 3 µm ou moins.
高密度、高強度な窒化ガリウムのスパッタリングターゲットが作製可能な酸素含有量が少なく成形性の高い窒化ガリウム粒子を提供する。 酸化ガリウムと窒化ガリウムの混合粉末を１０００～１１００℃の温度で、時間当たりのアンモニア反応量が投入したガリウム量に対し１倍モル以上の割合になるように反応させることにより、酸素含有量が１ａｔｍ％以下であり、一次粒子の平均粒子径が５μｍ以上であり、粒度分布の最小粒子から１０面積％の範囲の粒子径（１０％粒子径）が３μｍ以下である窒化ガリウム粒子を得る。
GALLIUM NITRIDE PARTICLES AND METHOD FOR PRODUCING SAME
PARTICULES DE NITRURE DE GALLIUM ET LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION
窒化ガリウム粒子およびその製造方法
MESUDA MASAMI (author) / KURAMOCHI HIDETO (author)
2018-12-20
Patent
Electronic Resource
Japanese
Gallium nitride molded article, method for producing same, and gallium nitride sputtering target
| European Patent Office | 2016
Gallium nitride sintered body or gallium nitride molded article, and method for producing same
| European Patent Office | 2021