A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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PLASMA PROCESSING DEVICE MEMBER AND PLASMA PROCESSING DEVICE
This plasma processing device member comprises an yttrium oxide sintered body containing 98% by mass or more of yttrium oxide and having a plurality of open pores. When L1 is the mean value of the distance between the centroids of the open pores that are adjacent to one another, L1 is 50 μm or longer. In addition, this plasma processing device comprises a plasma processing device member and a plasma generator.
L'invention concerne un élément de dispositif de traitement au plasma comprenant un corps fritté d'oxyde d'yttrium contenant au moins 98 % en masse d'oxyde d'yttrium et ayant une pluralité de pores ouverts. Lorsque L1 est la valeur moyenne de la distance entre les centroïdes des pores ouverts qui sont adjacents les uns aux autres, L1 est d'au moins 50 µm. De plus, ce dispositif de traitement au plasma comprend un élément de dispositif de traitement au plasma et un générateur de plasma.
本開示のプラズマ処理装置用部材は、酸化イットリウムを９８質量％以上含有し、複数の開気孔を有する酸化イットリウム質焼結体からなるプラズマ処理装置用部材であって、隣り合う前記開気孔の重心間距離の平均値をＬ１としたとき、前記Ｌ１は５０μｍ以上である。また本開示のプラズマ処理装置は、プラズマ処理装置用部材と、プラズマ発生装置とを備えている。
PLASMA PROCESSING DEVICE MEMBER AND PLASMA PROCESSING DEVICE
This plasma processing device member comprises an yttrium oxide sintered body containing 98% by mass or more of yttrium oxide and having a plurality of open pores. When L1 is the mean value of the distance between the centroids of the open pores that are adjacent to one another, L1 is 50 μm or longer. In addition, this plasma processing device comprises a plasma processing device member and a plasma generator.
L'invention concerne un élément de dispositif de traitement au plasma comprenant un corps fritté d'oxyde d'yttrium contenant au moins 98 % en masse d'oxyde d'yttrium et ayant une pluralité de pores ouverts. Lorsque L1 est la valeur moyenne de la distance entre les centroïdes des pores ouverts qui sont adjacents les uns aux autres, L1 est d'au moins 50 µm. De plus, ce dispositif de traitement au plasma comprend un élément de dispositif de traitement au plasma et un générateur de plasma.
本開示のプラズマ処理装置用部材は、酸化イットリウムを９８質量％以上含有し、複数の開気孔を有する酸化イットリウム質焼結体からなるプラズマ処理装置用部材であって、隣り合う前記開気孔の重心間距離の平均値をＬ１としたとき、前記Ｌ１は５０μｍ以上である。また本開示のプラズマ処理装置は、プラズマ処理装置用部材と、プラズマ発生装置とを備えている。
PLASMA PROCESSING DEVICE MEMBER AND PLASMA PROCESSING DEVICE
ÉLÉMENT DE DE DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
プラズマ処理装置用部材およびプラズマ処理装置
TANAKA MANPEI (author)
2019-04-04
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2023
Plasma processing device member and plasma processing device provided with same
| European Patent Office | 2022
MEMBER FOR PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE PROVIDED WITH SAME
| European Patent Office | 2022
MEMBER FOR PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE PROVIDED WITH SAME
| European Patent Office | 2020