A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
This member for use in a plasma treatment device is provided with a substrate, and, on the substrate, a film primarily composed of yttrium oxide. In the film, closed pores occupy no more than 0.2% of the surface area, and the half width of the diffraction peak in the (222) surface of the yttrium oxide obtained by x-ray diffraction is less than or equal to 0.25°. This plasma treatment device is provided with the member for use in a plasma treatment device.
L'invention concerne un élément qui est destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma et qui est pourvu d'un substrat, et, sur le substrat, d'un film principalement composé d'oxyde d'yttrium. Dans le film, les pores fermés occupent au plus 0,2 % de la surface, et la demi-largeur du pic de diffraction dans la surface (222) de l'oxyde d'yttrium obtenu par diffraction des rayons X est inférieure ou égale à 0,25°. L'invention concerne également un dispositif de traitement par plasma est pourvu de l'élément destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma.
本開示のプラズマ処理装置用部材は、基材と、該基材上に酸化イットリウムを主成分とする膜とを備える。そして、該膜は、閉気孔の面積占有率が０．２％以下であり、Ｘ線回折によって得られる酸化イットリウムの（２２２）面における回折ピークの半値幅が０．２５°以下である。本開示のプラズマ処理装置は、上記プラズマ処理装置用部材を備える。
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
This member for use in a plasma treatment device is provided with a substrate, and, on the substrate, a film primarily composed of yttrium oxide. In the film, closed pores occupy no more than 0.2% of the surface area, and the half width of the diffraction peak in the (222) surface of the yttrium oxide obtained by x-ray diffraction is less than or equal to 0.25°. This plasma treatment device is provided with the member for use in a plasma treatment device.
L'invention concerne un élément qui est destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma et qui est pourvu d'un substrat, et, sur le substrat, d'un film principalement composé d'oxyde d'yttrium. Dans le film, les pores fermés occupent au plus 0,2 % de la surface, et la demi-largeur du pic de diffraction dans la surface (222) de l'oxyde d'yttrium obtenu par diffraction des rayons X est inférieure ou égale à 0,25°. L'invention concerne également un dispositif de traitement par plasma est pourvu de l'élément destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma.
本開示のプラズマ処理装置用部材は、基材と、該基材上に酸化イットリウムを主成分とする膜とを備える。そして、該膜は、閉気孔の面積占有率が０．２％以下であり、Ｘ線回折によって得られる酸化イットリウムの（２２２）面における回折ピークの半値幅が０．２５°以下である。本開示のプラズマ処理装置は、上記プラズマ処理装置用部材を備える。
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
ÉLÉMENT DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA, ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ÉQUIPÉ DE CELUI-CI
プラズマ処理装置用部材およびこれを備えるプラズマ処理装置
ISHIKAWA KAZUHIRO (author) / HINO TAKASHI (author) / SAITO SHUICHI (author)
2019-08-22
Patent
Electronic Resource
Japanese
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2024
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2020
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2020
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2021
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2019