A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
This member for use in a plasma treatment device is provided with a substrate, and, on at least part of the substrate, a film of an oxide of a rare earth element. The film thickness has a coefficient of variation of less than or equal to 0.04. This plasma treatment device is provided with the aforementioned member for use in a plasma treatment device. The member for use in a plasma treatment device has low film thickness variability.
L'invention concerne un élément destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma, qui est pourvu d'un substrat, et, sur au moins une partie du substrat, d'un film d'un oxyde d'un élément de terre rare. L'épaisseur du film a un coefficient de variation inférieur ou égal à 0,04. Ce dispositif de traitement par plasma est pourvu de l'élément susmentionné destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma. L'élément destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma présente une faible variabilité d'épaisseur de film.
本開示のプラズマ処理装置用部材は、基材と、該基材の少なくとも一部に希土類元素の酸化物の膜とを備える。該膜は、厚みの変動係数が０．０４以下である。本開示のプラズマ処理装置は、上記プラズマ処理装置用部材を備える。本開示のプラズマ処理装置用部材は、膜の厚みのばらつきが少ない。
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
This member for use in a plasma treatment device is provided with a substrate, and, on at least part of the substrate, a film of an oxide of a rare earth element. The film thickness has a coefficient of variation of less than or equal to 0.04. This plasma treatment device is provided with the aforementioned member for use in a plasma treatment device. The member for use in a plasma treatment device has low film thickness variability.
L'invention concerne un élément destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma, qui est pourvu d'un substrat, et, sur au moins une partie du substrat, d'un film d'un oxyde d'un élément de terre rare. L'épaisseur du film a un coefficient de variation inférieur ou égal à 0,04. Ce dispositif de traitement par plasma est pourvu de l'élément susmentionné destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma. L'élément destiné à être utilisé dans un dispositif de traitement par plasma présente une faible variabilité d'épaisseur de film.
本開示のプラズマ処理装置用部材は、基材と、該基材の少なくとも一部に希土類元素の酸化物の膜とを備える。該膜は、厚みの変動係数が０．０４以下である。本開示のプラズマ処理装置は、上記プラズマ処理装置用部材を備える。本開示のプラズマ処理装置用部材は、膜の厚みのばらつきが少ない。
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
ÉLÉMENT DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ÉQUIPÉ DE CELUI-CI
プラズマ処理装置用部材およびこれを備えるプラズマ処理装置
ISHIKAWA KAZUHIRO (author) / HINO TAKASHI (author) / SAITO SHUICHI (author)
2019-08-22
Patent
Electronic Resource
Japanese
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2019
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2021
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2024
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2020
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2020