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SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING MEDIA
This sputtering target has (100-x)MgO-xCuO(0
L'invention concerne une cible de pulvérisation ayant comme composition (100-x)MgO-xCuO(0
スパッタリングターゲットは、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有する。
SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING MEDIA
This sputtering target has (100-x)MgO-xCuO(0
L'invention concerne une cible de pulvérisation ayant comme composition (100-x)MgO-xCuO(0
スパッタリングターゲットは、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有する。
SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING MEDIA
CIBLE DE PULVÉRISATION ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
スパッタリングターゲット及び磁気記録媒体
TANAKA MASAKI (author) / MITANI ATSUYUKI (author) / SHIMA TOSHIYUKI (author)
2020-04-02
Patent
Electronic Resource
Japanese
Sputtering target, magnetic film, and perpendicular magnetic recording medium
European Patent Office | 2023
|European Patent Office | 2019
|European Patent Office | 2022
|European Patent Office | 2024
|European Patent Office | 2022
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