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SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING MEDIA
This sputtering target has (100-x)MgO-xCuO(0
L'invention concerne une cible de pulvérisation ayant comme composition (100-x)MgO-xCuO(0
スパッタリングターゲットは、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有する。
SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING MEDIA
This sputtering target has (100-x)MgO-xCuO(0
L'invention concerne une cible de pulvérisation ayant comme composition (100-x)MgO-xCuO(0
スパッタリングターゲットは、組成(単位:モル%)として、(100-x)MgO-xCuO(0<x<10)を有する。
SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING MEDIA
CIBLE DE PULVÉRISATION ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
スパッタリングターゲット及び磁気記録媒体
TANAKA MASAKI (Autor:in) / MITANI ATSUYUKI (Autor:in) / SHIMA TOSHIYUKI (Autor:in)
02.04.2020
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Sputtering target, magnetic film, and perpendicular magnetic recording medium
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