A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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ELECTRODE-EMBEDDED MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, ELECTROSTATIC CHUCK, AND CERAMIC HEATER
An electrode-embedded member 1 comprises: a ceramic base body 2; an electrode 3; a connection member 4 that includes tungsten and/or molybdenum and that is embedded in the base body 2 in a state in which one principal surface 4a faces the electrode 3 side and is electrically connected to the electrode 3; and a hole part 5 that extends from the outer surface of the base body 2 to another principal surface 4b of the connection member 4. A buffer member 10 embedded in the base body 2 includes at least a ceramic material that constitutes the base body 2 and a conductive material of which tungsten and/or molybdenum is a constituent element. The buffer member 10 covers at least a portion of an edge part of the connection member 4.
Élément intégré (1) à une électrode comprenant un corps de base en céramique (2) ; une électrode (3) ; un élément de connexion (4) qui comprend du tungstène et/ou du molybdène et qui est incorporé dans le corps de base (2) dans un état dans lequel une surface principale (4a) fait face au côté de l'électrode (3) et est électriquement connectée à l'électrode (3) ; et une partie trou (5) qui s'étend depuis la surface externe du corps de base (2) jusqu'à une autre surface principale (4b) de l'élément de connexion (4). Un élément tampon (10) intégré dans le corps de base (2) comprend au moins un matériau céramique qui constitue le corps de base (2) et un matériau conducteur dont le tungstène et/ou le molybdène sont un élément constitutif. L'élément tampon (10) recouvre au moins une partie d'une partie de bord de l'élément de connexion (4).
電極埋設部材１は、セラミックス製の基体２と、電極３と、一方の主面４ａが電極３側を向き、且つ電極３と電気的に接続された状態で基体２に埋設されたタングステン又はモリブデンの少なくとも一方を含む接続部材４と、基体２の外面から接続部材４の他方の主面４ｂまで延びる穴部５と、を備える。基体２に埋設された緩衝部材１０は、少なくとも基体２を構成するセラミックス材料とタングステン及びモリブデンの少なくとも一方を構成元素とする導電性材料とを含み、且つ緩衝部材１０は、接続部材４の縁部の少なくとも一部を覆う。
ELECTRODE-EMBEDDED MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, ELECTROSTATIC CHUCK, AND CERAMIC HEATER
An electrode-embedded member 1 comprises: a ceramic base body 2; an electrode 3; a connection member 4 that includes tungsten and/or molybdenum and that is embedded in the base body 2 in a state in which one principal surface 4a faces the electrode 3 side and is electrically connected to the electrode 3; and a hole part 5 that extends from the outer surface of the base body 2 to another principal surface 4b of the connection member 4. A buffer member 10 embedded in the base body 2 includes at least a ceramic material that constitutes the base body 2 and a conductive material of which tungsten and/or molybdenum is a constituent element. The buffer member 10 covers at least a portion of an edge part of the connection member 4.
Élément intégré (1) à une électrode comprenant un corps de base en céramique (2) ; une électrode (3) ; un élément de connexion (4) qui comprend du tungstène et/ou du molybdène et qui est incorporé dans le corps de base (2) dans un état dans lequel une surface principale (4a) fait face au côté de l'électrode (3) et est électriquement connectée à l'électrode (3) ; et une partie trou (5) qui s'étend depuis la surface externe du corps de base (2) jusqu'à une autre surface principale (4b) de l'élément de connexion (4). Un élément tampon (10) intégré dans le corps de base (2) comprend au moins un matériau céramique qui constitue le corps de base (2) et un matériau conducteur dont le tungstène et/ou le molybdène sont un élément constitutif. L'élément tampon (10) recouvre au moins une partie d'une partie de bord de l'élément de connexion (4).
電極埋設部材１は、セラミックス製の基体２と、電極３と、一方の主面４ａが電極３側を向き、且つ電極３と電気的に接続された状態で基体２に埋設されたタングステン又はモリブデンの少なくとも一方を含む接続部材４と、基体２の外面から接続部材４の他方の主面４ｂまで延びる穴部５と、を備える。基体２に埋設された緩衝部材１０は、少なくとも基体２を構成するセラミックス材料とタングステン及びモリブデンの少なくとも一方を構成元素とする導電性材料とを含み、且つ緩衝部材１０は、接続部材４の縁部の少なくとも一部を覆う。
ELECTRODE-EMBEDDED MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, ELECTROSTATIC CHUCK, AND CERAMIC HEATER
ÉLÉMENT INTÉGRÉ À UNE ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, PORTE-SUBSTRAT ÉLECTROSTATIQUE ET ÉLÉMENT CHAUFFANT EN CÉRAMIQUE
電極埋設部材及びその製造方法、静電チャック、セラミックス製ヒーター
YABUHANA MASAKI (author)
2020-10-01
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2023
ELECTROSTATIC CHUCK, ELECTROSTATIC CHUCK HEATER COMPRISING SAME, AND SEMICONDUCTOR HOLDING DEVICE
| European Patent Office | 2024