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SILICON NITRIDE SINTERED BODY, WEAR-RESISTANT MEMBER USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
A silicon nitride sintered body comprising silicon nitride crystal grains and grain boundary phases, and characterized in that, when the width before the application of a surface treatment is defined as D, the relationships between the average grain diameter dA and the average aspect ratio rA of the silicon nitride crystal grains in a first region that extends from the outermost surface to a depth of 0 to 0.01D and the average grain diameter dB and the average aspect ratio rB of the silicon nitride crystal grains in a second region that is located deeper inside each of the crystal grains than the first region satisfy the formula: 0.8 ≦ dA/dB ≦ 1.2 and the formula: 0.8 ≦ rA/rB ≦ 1.2.
La présente invention concerne un corps fritté de nitrure de silicium qui comprend des grains cristallins de nitrure de silicium et des phases de limite de grain, et caractérisé en ce que, lorsque la largeur avant l'application d'un traitement de surface est définie comme D, les relations entre le diamètre de grain moyen dA et le rapport d'aspect moyen rA des grains cristallins de nitrure de silicium dans une première région qui s'étend depuis la surface la plus externe jusqu'à une profondeur de 0 à 0,01 D et le diamètre moyen de grain dB et le rapport d'aspect moyen rB des grains cristallins de nitrure de silicium dans une seconde région qui est située plus profondément à l'intérieur de chacun des grains cristallins que la première région satisfont à la formule : 0,8 ≦ dA/dB ≦ 1,2 et à la formule : 0,8 ≦ rA/rB ≦ 1,2.
窒化珪素結晶粒子と粒界相を有する窒化珪素焼結体であって、表面加工を施す前の幅をＤとしたとき、最表面から０～０．０１Ｄの深さまでの第１領域における前記窒化珪素結晶粒子の平均粒子径ｄＡおよび平均アスペクト比ｒＡと、前記第１領域より内側の第２領域における前記窒化珪素結晶粒子の平均粒子径ｄＢおよび平均アスペクト比ｒＢとの関係が、 ０．８≦ｄＡ／ｄＢ≦１．２ ０．８≦ｒＡ／ｒＢ≦１．２ の式を満たすことを特徴とする。
SILICON NITRIDE SINTERED BODY, WEAR-RESISTANT MEMBER USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
A silicon nitride sintered body comprising silicon nitride crystal grains and grain boundary phases, and characterized in that, when the width before the application of a surface treatment is defined as D, the relationships between the average grain diameter dA and the average aspect ratio rA of the silicon nitride crystal grains in a first region that extends from the outermost surface to a depth of 0 to 0.01D and the average grain diameter dB and the average aspect ratio rB of the silicon nitride crystal grains in a second region that is located deeper inside each of the crystal grains than the first region satisfy the formula: 0.8 ≦ dA/dB ≦ 1.2 and the formula: 0.8 ≦ rA/rB ≦ 1.2.
La présente invention concerne un corps fritté de nitrure de silicium qui comprend des grains cristallins de nitrure de silicium et des phases de limite de grain, et caractérisé en ce que, lorsque la largeur avant l'application d'un traitement de surface est définie comme D, les relations entre le diamètre de grain moyen dA et le rapport d'aspect moyen rA des grains cristallins de nitrure de silicium dans une première région qui s'étend depuis la surface la plus externe jusqu'à une profondeur de 0 à 0,01 D et le diamètre moyen de grain dB et le rapport d'aspect moyen rB des grains cristallins de nitrure de silicium dans une seconde région qui est située plus profondément à l'intérieur de chacun des grains cristallins que la première région satisfont à la formule : 0,8 ≦ dA/dB ≦ 1,2 et à la formule : 0,8 ≦ rA/rB ≦ 1,2.
窒化珪素結晶粒子と粒界相を有する窒化珪素焼結体であって、表面加工を施す前の幅をＤとしたとき、最表面から０～０．０１Ｄの深さまでの第１領域における前記窒化珪素結晶粒子の平均粒子径ｄＡおよび平均アスペクト比ｒＡと、前記第１領域より内側の第２領域における前記窒化珪素結晶粒子の平均粒子径ｄＢおよび平均アスペクト比ｒＢとの関係が、 ０．８≦ｄＡ／ｄＢ≦１．２ ０．８≦ｒＡ／ｒＢ≦１．２ の式を満たすことを特徴とする。
SILICON NITRIDE SINTERED BODY, WEAR-RESISTANT MEMBER USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
CORPS FRITTÉ DE NITRURE DE SILICIUM, ÉLÉMENT RÉSISTANT À L'USURE L'UTILISANT, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CORPS FRITTÉ DE NITRURE DE SILICIUM
窒化珪素焼結体、それを用いた耐摩耗性部材、および窒化珪素焼結体の製造方法
FUNAKI KAI (author)
2021-12-02
Patent
Electronic Resource
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