A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PERFORMANCE SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
A batch sintering method for a high-performance silicon nitride ceramic substrate, comprising: (1) stacking silicon nitride ceramic substrate biscuits in a boron nitride crucible, and coating a boron nitride powder layer between adjacent silicon nitride ceramic substrate biscuits; (2) after vacuuming step by step, debonding same in a nitrogen atmosphere or a reducing atmosphere at 500-900°C; and (3) then gas pressure sintering being performed in a nitrogen atmosphere at 1800-2000°C so as to realize batch preparation of the high-performance silicon nitride ceramic substrate.
L'invention concerne un procédé de frittage par lots pour un substrat céramique en nitrure de silicium à haute performance, comprenant les étapes consistant à : (1) Empiler des biscuits de substrat en céramique de nitrure de silicium dans un creuset en nitrure de bore, et revêtir une couche de poudre de nitrure de bore entre des biscuits de substrat en céramique de nitrure de silicium adjacents ; (2) après mise sous vide en étape par étape, les décoller dans une atmosphère d'azote ou une atmosphère réductrice à 500-900 °C ; et (3) puis réaliser un frittage sous pression gazeuse dans une atmosphère d'azote à 1800-2000 °C de manière à réaliser une préparation par lots du substrat céramique de nitrure de silicium à haute performance.
一种高性能氮化硅陶瓷基片的批量化烧结方法，包括：(1)将氮化硅陶瓷基片素坯叠放在氮化硼坩埚中，且在相邻氮化硅陶瓷基片素坯之间涂敷一层氮化硼粉体；(2)分步骤抽真空后，在氮气气氛或还原性气氛中、500～900℃下进行脱粘；(3)然后在氮气气氛中、1800～2000℃下气压烧结，实现高性能氮化硅陶瓷基片的批量化制备。
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PERFORMANCE SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
A batch sintering method for a high-performance silicon nitride ceramic substrate, comprising: (1) stacking silicon nitride ceramic substrate biscuits in a boron nitride crucible, and coating a boron nitride powder layer between adjacent silicon nitride ceramic substrate biscuits; (2) after vacuuming step by step, debonding same in a nitrogen atmosphere or a reducing atmosphere at 500-900°C; and (3) then gas pressure sintering being performed in a nitrogen atmosphere at 1800-2000°C so as to realize batch preparation of the high-performance silicon nitride ceramic substrate.
L'invention concerne un procédé de frittage par lots pour un substrat céramique en nitrure de silicium à haute performance, comprenant les étapes consistant à : (1) Empiler des biscuits de substrat en céramique de nitrure de silicium dans un creuset en nitrure de bore, et revêtir une couche de poudre de nitrure de bore entre des biscuits de substrat en céramique de nitrure de silicium adjacents ; (2) après mise sous vide en étape par étape, les décoller dans une atmosphère d'azote ou une atmosphère réductrice à 500-900 °C ; et (3) puis réaliser un frittage sous pression gazeuse dans une atmosphère d'azote à 1800-2000 °C de manière à réaliser une préparation par lots du substrat céramique de nitrure de silicium à haute performance.
一种高性能氮化硅陶瓷基片的批量化烧结方法，包括：(1)将氮化硅陶瓷基片素坯叠放在氮化硼坩埚中，且在相邻氮化硅陶瓷基片素坯之间涂敷一层氮化硼粉体；(2)分步骤抽真空后，在氮气气氛或还原性气氛中、500～900℃下进行脱粘；(3)然后在氮气气氛中、1800～2000℃下气压烧结，实现高性能氮化硅陶瓷基片的批量化制备。
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PERFORMANCE SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
PROCÉDÉ DE FRITTAGE PAR LOTS POUR SUBSTRAT CÉRAMIQUE EN NITRURE DE SILICIUM À HAUTE PERFORMANCE
一种高性能氮化硅陶瓷基片的批量化烧结方法
ZHANG HUI (author) / LIU XUEJIAN (author) / JIANG JINDI (author) / YAO XIUMIN (author) / HUANG ZHENGREN (author) / CHEN ZHONGMING (author) / HUANG JIAN (author)
2022-07-28
Patent
Electronic Resource
Chinese
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PERFORMANCE SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
| European Patent Office | 2025
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PROPERTY SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
| European Patent Office | 2024
Laminated sintering process method of high-performance silicon nitride ceramic substrate
| European Patent Office | 2023
| European Patent Office | 2023