A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
PLASMA-ASSISTED CERAMIC SINTERING DEVICE AND CERAMIC SINTERING METHOD
Disclosed in the present application are a plasma-assisted ceramic sintering device and a ceramic sintering method. The plasma-assisted ceramic sintering device comprises: a closed container for containing a ceramic green body, the closed container being provided with a gas outlet; a plasma jet device comprising a working power supply and a plasma generating chamber, wherein the plasma generating chamber is provided with a gas input port and a gas output port, the gas output port is located in the closed container, a working electrode is arranged in the plasma generating chamber, the working electrode is provided with a first end and a second end, the first end is electrically connected to the working power supply, and the second end is close to the gas output port; a gas output device in communication with the gas input port and configured to input a working gas into the plasma generating chamber; and a power supply device configured to be electrically connected to the ceramic green body to apply a voltage to the ceramic green body for sintering to obtain a ceramic. The sintering device provided in the present application can provide plasma-assisted sintering, so as to better optimize the performance of ceramic materials.
La présente demande divulgue un dispositif de frittage de céramique assisté par plasma et un procédé de frittage de céramique. Le dispositif de frittage de céramique assisté par plasma comprend : un récipient fermé destiné à contenir un corps cru en céramique, le récipient fermé étant doté d'une sortie de gaz ; un dispositif à jet de plasma comprenant une alimentation électrique de travail et une chambre de génération de plasma, la chambre de génération de plasma étant dotée d'un orifice d'entrée de gaz et d'un orifice de sortie de gaz, l'orifice de sortie de gaz étant situé dans le récipient fermé, une électrode de travail étant agencée dans la chambre de génération de plasma, l'électrode de travail étant dotée d'une première extrémité et d'une seconde extrémité, la première extrémité étant électriquement connectée à l'alimentation électrique de travail et la seconde extrémité étant proche de l'orifice de sortie de gaz ; un dispositif de sortie de gaz en communication avec l'orifice d'entrée de gaz et configuré pour faire entrer un gaz de travail dans la chambre de génération de plasma ; et un dispositif d'alimentation électrique configuré pour être électriquement connecté au corps vert en céramique pour appliquer une tension au corps cru en céramique pour le frittage pour obtenir une céramique. Le dispositif de frittage selon la présente invention peut fournir un frittage assisté par plasma de manière à mieux optimiser la performance de matériaux de céramique.
本申请公开了一种等离子体辅助陶瓷烧结装置和陶瓷烧结方法，等离子体辅助陶瓷烧结装置包括：密闭容器，用于盛放陶瓷生坯，密闭容器开设有出气口；等离子体射流装置，包括工作电源和等离子体发生室，等离子体发生室开设有气体输入口和气体输出口，气体输出口位于密闭容器内，等离子体发生室内设有工作电极，工作电极具有第一端和第二端，第一端与工作电源电性连接，第二端靠近气体输出口；气体输出装置，与气体输入口连通，用于向等离子体发生室输入工作气体；电源装置，用于与陶瓷生坯电性连接以向陶瓷生坯施加电压进行烧结得到陶瓷。本申请提供的烧结装置能够提供等离子体辅助烧结，从而更好地实现陶瓷材料的性能优化。
PLASMA-ASSISTED CERAMIC SINTERING DEVICE AND CERAMIC SINTERING METHOD
Disclosed in the present application are a plasma-assisted ceramic sintering device and a ceramic sintering method. The plasma-assisted ceramic sintering device comprises: a closed container for containing a ceramic green body, the closed container being provided with a gas outlet; a plasma jet device comprising a working power supply and a plasma generating chamber, wherein the plasma generating chamber is provided with a gas input port and a gas output port, the gas output port is located in the closed container, a working electrode is arranged in the plasma generating chamber, the working electrode is provided with a first end and a second end, the first end is electrically connected to the working power supply, and the second end is close to the gas output port; a gas output device in communication with the gas input port and configured to input a working gas into the plasma generating chamber; and a power supply device configured to be electrically connected to the ceramic green body to apply a voltage to the ceramic green body for sintering to obtain a ceramic. The sintering device provided in the present application can provide plasma-assisted sintering, so as to better optimize the performance of ceramic materials.
La présente demande divulgue un dispositif de frittage de céramique assisté par plasma et un procédé de frittage de céramique. Le dispositif de frittage de céramique assisté par plasma comprend : un récipient fermé destiné à contenir un corps cru en céramique, le récipient fermé étant doté d'une sortie de gaz ; un dispositif à jet de plasma comprenant une alimentation électrique de travail et une chambre de génération de plasma, la chambre de génération de plasma étant dotée d'un orifice d'entrée de gaz et d'un orifice de sortie de gaz, l'orifice de sortie de gaz étant situé dans le récipient fermé, une électrode de travail étant agencée dans la chambre de génération de plasma, l'électrode de travail étant dotée d'une première extrémité et d'une seconde extrémité, la première extrémité étant électriquement connectée à l'alimentation électrique de travail et la seconde extrémité étant proche de l'orifice de sortie de gaz ; un dispositif de sortie de gaz en communication avec l'orifice d'entrée de gaz et configuré pour faire entrer un gaz de travail dans la chambre de génération de plasma ; et un dispositif d'alimentation électrique configuré pour être électriquement connecté au corps vert en céramique pour appliquer une tension au corps cru en céramique pour le frittage pour obtenir une céramique. Le dispositif de frittage selon la présente invention peut fournir un frittage assisté par plasma de manière à mieux optimiser la performance de matériaux de céramique.
本申请公开了一种等离子体辅助陶瓷烧结装置和陶瓷烧结方法，等离子体辅助陶瓷烧结装置包括：密闭容器，用于盛放陶瓷生坯，密闭容器开设有出气口；等离子体射流装置，包括工作电源和等离子体发生室，等离子体发生室开设有气体输入口和气体输出口，气体输出口位于密闭容器内，等离子体发生室内设有工作电极，工作电极具有第一端和第二端，第一端与工作电源电性连接，第二端靠近气体输出口；气体输出装置，与气体输入口连通，用于向等离子体发生室输入工作气体；电源装置，用于与陶瓷生坯电性连接以向陶瓷生坯施加电压进行烧结得到陶瓷。本申请提供的烧结装置能够提供等离子体辅助烧结，从而更好地实现陶瓷材料的性能优化。
PLASMA-ASSISTED CERAMIC SINTERING DEVICE AND CERAMIC SINTERING METHOD
DISPOSITIF DE FRITTAGE DE CÉRAMIQUE ASSISTÉ PAR PLASMA ET PROCÉDÉ DE FRITTAGE DE CÉRAMIQUE
等离子体辅助陶瓷烧结装置和陶瓷烧结方法
WANG XILIN (author) / YAN ZIYANG (author) / ZHANG RUOBING (author) / ZHOU HONGYANG (author) / JIA ZHIDONG (author) / WANG LIMING (author)
2023-06-29
Patent
Electronic Resource
Chinese
IPC:
B22F
Verarbeiten von Metallpulver
,
WORKING METALLIC POWDER
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
F27D
Einzelheiten oder Zubehör für Industrieöfen, Schachtöfen, Brennöfen oder Retorten, soweit sie nicht auf eine Ofenart eingeschränkt sind
,
DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
PLASMA-ASSISTED CERAMIC SINTERING DEVICE AND CERAMIC SINTERING METHOD
| European Patent Office | 2025