A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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DOOR DRIVING MECHANISM, PROCESS CHAMBER, AND SEMICONDUCTOR PROCESS DEVICE
The present application provides a door driving mechanism, a process chamber, and a semiconductor process device. The door driving mechanism comprises a first driving unit, a second driving unit, and a connecting portion; the connecting portion is used for being connected to a door and is in driving connection with the first driving unit and the second driving unit; the first driving unit is used for driving the connecting portion to move in a first direction, so that the connecting portion drives the door to move in the first direction; and the second driving unit is used for driving the connecting portion to move in a second direction intersecting with the first direction, so that the connecting portion drives the door to move relative to the first driving unit in the second direction. According to the door driving mechanism of the present application, transverse movement of the door can be achieved by providing the second driving unit, so that the door can press against a lining structure to achieve sealing, or the door can be separated from the lining, effectively avoiding friction between the door and the lining structure while the sealing effect of the door is guaranteed.
La présente demande concerne un mécanisme d'entraînement de porte, une chambre de traitement et un dispositif de traitement de semi-conducteurs. Le mécanisme d'entraînement de porte comprend une première unité d'entraînement, une seconde unité d'entraînement et une partie de liaison. La partie de liaison est utilisée pour être reliée à une porte et est en liaison d'entraînement avec la première unité d'entraînement et la seconde unité d'entraînement. La première unité d'entraînement est utilisée pour entraîner la partie de liaison à se déplacer dans une première direction, de telle sorte que la partie de liaison entraîne la porte à se déplacer dans la première direction ; et la seconde unité d'entraînement est utilisée pour entraîner la partie de liaison à se déplacer dans une seconde direction croisant la première direction, de telle sorte que la partie de liaison entraîne la porte à se déplacer par rapport à la première unité d'entraînement dans la seconde direction. Selon le mécanisme d'entraînement de porte de la présente demande, un mouvement transversal de la porte peut être obtenu grâce à la seconde unité d'entraînement, de telle sorte que la porte peut être plaquée contre une structure de garniture pour obtenir une fermeture hermétique, ou la porte peut être séparée de la garniture, évitant efficacement le frottement entre la porte et la structure de garniture tandis que l'effet de fermeture hermétique de la porte est garanti.
本申请提供一种门体驱动机构、工艺腔室及半导体工艺设备。门体驱动机构，包括：第一驱动装置、第二驱动装置和连接部，连接部用于与门体连接，且与第一驱动装置、第二驱动装置驱动连接，第一驱动装置用于驱动连接部沿第一方向移动，以使连接部带动门体沿第一方向移动；第二驱动装置用于驱动连接部沿第二方向移动，第二方向与第一方向相交，以使连接部带动门体沿第二方向相对于第一驱动装置移动。本申请的门体驱动机构通过设置第二驱动装置可以实现门体的横向移动，从而可以将门体压在内衬结构上实现密封或者将门体与内衬分离，在保证门体密封效果的同时，还有效避免门体与内衬结构的擦碰。
DOOR DRIVING MECHANISM, PROCESS CHAMBER, AND SEMICONDUCTOR PROCESS DEVICE
The present application provides a door driving mechanism, a process chamber, and a semiconductor process device. The door driving mechanism comprises a first driving unit, a second driving unit, and a connecting portion; the connecting portion is used for being connected to a door and is in driving connection with the first driving unit and the second driving unit; the first driving unit is used for driving the connecting portion to move in a first direction, so that the connecting portion drives the door to move in the first direction; and the second driving unit is used for driving the connecting portion to move in a second direction intersecting with the first direction, so that the connecting portion drives the door to move relative to the first driving unit in the second direction. According to the door driving mechanism of the present application, transverse movement of the door can be achieved by providing the second driving unit, so that the door can press against a lining structure to achieve sealing, or the door can be separated from the lining, effectively avoiding friction between the door and the lining structure while the sealing effect of the door is guaranteed.
La présente demande concerne un mécanisme d'entraînement de porte, une chambre de traitement et un dispositif de traitement de semi-conducteurs. Le mécanisme d'entraînement de porte comprend une première unité d'entraînement, une seconde unité d'entraînement et une partie de liaison. La partie de liaison est utilisée pour être reliée à une porte et est en liaison d'entraînement avec la première unité d'entraînement et la seconde unité d'entraînement. La première unité d'entraînement est utilisée pour entraîner la partie de liaison à se déplacer dans une première direction, de telle sorte que la partie de liaison entraîne la porte à se déplacer dans la première direction ; et la seconde unité d'entraînement est utilisée pour entraîner la partie de liaison à se déplacer dans une seconde direction croisant la première direction, de telle sorte que la partie de liaison entraîne la porte à se déplacer par rapport à la première unité d'entraînement dans la seconde direction. Selon le mécanisme d'entraînement de porte de la présente demande, un mouvement transversal de la porte peut être obtenu grâce à la seconde unité d'entraînement, de telle sorte que la porte peut être plaquée contre une structure de garniture pour obtenir une fermeture hermétique, ou la porte peut être séparée de la garniture, évitant efficacement le frottement entre la porte et la structure de garniture tandis que l'effet de fermeture hermétique de la porte est garanti.
本申请提供一种门体驱动机构、工艺腔室及半导体工艺设备。门体驱动机构，包括：第一驱动装置、第二驱动装置和连接部，连接部用于与门体连接，且与第一驱动装置、第二驱动装置驱动连接，第一驱动装置用于驱动连接部沿第一方向移动，以使连接部带动门体沿第一方向移动；第二驱动装置用于驱动连接部沿第二方向移动，第二方向与第一方向相交，以使连接部带动门体沿第二方向相对于第一驱动装置移动。本申请的门体驱动机构通过设置第二驱动装置可以实现门体的横向移动，从而可以将门体压在内衬结构上实现密封或者将门体与内衬分离，在保证门体密封效果的同时，还有效避免门体与内衬结构的擦碰。
DOOR DRIVING MECHANISM, PROCESS CHAMBER, AND SEMICONDUCTOR PROCESS DEVICE
MÉCANISME D'ENTRAÎNEMENT DE PORTE, CHAMBRE DE TRAITEMENT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
门体驱动机构、工艺腔室及半导体工艺设备
FAN YINGXU (author) / TANG XIWEN (author)
2025-02-20
Patent
Electronic Resource
Chinese
Door opening mechanism of semiconductor process equipment
| European Patent Office | 2023