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Silicon dioxide film deposited by photoassisted microwave plasma CVD using TEOS

Suzuki, N. / Masu, K. / Tsubouchi, K.

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Titel:

Silicon dioxide film deposited by photoassisted microwave plasma CVD using TEOS

Beteiligte:

Suzuki, N. (Autor:in) / Masu, K. (Autor:in) / Tsubouchi, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 79/80 ; 327

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

327 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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