Properties of silicon doped silicon dioxide thin films deposited by Co-sputtering of silicon and silicon dioxide: Fid-Bau Portal

Properties of silicon doped silicon dioxide thin films deposited by Co-sputtering of silicon and silicon dioxide

Sandhu, A. / Show, Y. / Katano, T. / Iwase, M. / Izumi, T. / Yabe, T. / Nozaki, S. / Morisaki, H.

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Titel:

Properties of silicon doped silicon dioxide thin films deposited by Co-sputtering of silicon and silicon dioxide

Beteiligte:

Sandhu, A. (Autor:in) / Show, Y. (Autor:in) / Katano, T. (Autor:in) / Iwase, M. (Autor:in) / Izumi, T. (Autor:in) / Yabe, T. (Autor:in) / Nozaki, S. (Autor:in) / Morisaki, H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 117/118 ; 634-637

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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