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    Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited Silicon and Silicon Dioxide Films for Indium Phosphide MISFET Technology

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    Titel:

    Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited Silicon and Silicon Dioxide Films for Indium Phosphide MISFET Technology

    Beteiligte:

    Shokrani, M. (Autor:in) / Kapoor, V. J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 285

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1993

    Format / Umfang:

    285 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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