Modeling of boron diffusion in polysilicon-on-silicon structures using a rapid thermal anneal step for ultra-shallow junction formation: Fid-Bau Portal

Modeling of boron diffusion in polysilicon-on-silicon structures using a rapid thermal anneal step for ultra-shallow junction formation

Sultan, A. / Batra, S. / Lux, G. E. / Banerjee, S.

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Titel:

Modeling of boron diffusion in polysilicon-on-silicon structures using a rapid thermal anneal step for ultra-shallow junction formation

Beteiligte:

Sultan, A. (Autor:in) / Batra, S. (Autor:in) / Lux, G. E. (Autor:in) / Banerjee, S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 32 ; 25

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

25 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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