Influence of CH~4/H~2 reactive ion etching on electrical and optical properties of AlGaAs/GaAs and pseudomorphic AlGaAs/InGaAs/GaAs heterostructures: Fid-Bau Portal

Influence of CH~4/H~2 reactive ion etching on electrical and optical properties of AlGaAs/GaAs and pseudomorphic AlGaAs/InGaAs/GaAs heterostructures

Van Es, C. M. / Eijkemans, T. J. / Wolter, J. H. / Pereira, R.

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Titel:

Influence of CH~4/H~2 reactive ion etching on electrical and optical properties of AlGaAs/GaAs and pseudomorphic AlGaAs/InGaAs/GaAs heterostructures

Beteiligte:

Van Es, C. M. (Autor:in) / Eijkemans, T. J. (Autor:in) / Wolter, J. H. (Autor:in) / Pereira, R. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY -LONDON- ; 11 ; 41

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

41 pages

ISSN:

0267-0836

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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