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Mechanisms of intrinsic stresses generation in sputtered amorphous Si:H films

Takahashi, H. / Nagata, H. / Kataoka, H. / Takai, H.

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Titel:

Mechanisms of intrinsic stresses generation in sputtered amorphous Si:H films

Beteiligte:

Takahashi, H. (Autor:in) / Nagata, H. (Autor:in) / Kataoka, H. (Autor:in) / Takai, H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 10 ; 2736

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

2736 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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