Residual Stress in Ion Implanted Titanium Nitride Studied by Parallel Beam Glancing Incidence X-Ray Diffraction: Fid-Bau Portal

Residual Stress in Ion Implanted Titanium Nitride Studied by Parallel Beam Glancing Incidence X-Ray Diffraction

Geist, D. E. / Perry, A. J. / Treglio, J. R. / Valvoda, V.

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Titel:

Residual Stress in Ion Implanted Titanium Nitride Studied by Parallel Beam Glancing Incidence X-Ray Diffraction

Beteiligte:

Geist, D. E. (Autor:in) / Perry, A. J. (Autor:in) / Treglio, J. R. (Autor:in) / Valvoda, V. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCES IN X RAY ANALYSIS ; 471

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

471 pages

ISSN:

0376-0308

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 539.7222

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