Characterization of ex-situ hydrogenated amorphous SiC thin films by X-ray photoelectron spectroscopy: Fid-Bau Portal

Characterization of ex-situ hydrogenated amorphous SiC thin films by X-ray photoelectron spectroscopy

Kennou, S. / Ladas, S. / Paloura, E. C. / Kalomiros, J. A.

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Titel:

Characterization of ex-situ hydrogenated amorphous SiC thin films by X-ray photoelectron spectroscopy

Beteiligte:

Kennou, S. (Autor:in) / Ladas, S. (Autor:in) / Paloura, E. C. (Autor:in) / Kalomiros, J. A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 90 ; 283

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

283 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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