Refractive index behavior of boron-doped silica films by plasma-enhanced chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Refractive index behavior of boron-doped silica films by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Horng, R. H. / Chen, F. / Wuu, D. S. / Lin, T. Y.

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Titel:

Refractive index behavior of boron-doped silica films by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Beteiligte:

Horng, R. H. (Autor:in) / Chen, F. (Autor:in) / Wuu, D. S. (Autor:in) / Lin, T. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 92 ; 387-390

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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