UHV-CVD Ge/Si(100)heteroepitaxy monitored by in situ ellipsometry: Fid-Bau Portal

UHV-CVD Ge/Si(100)heteroepitaxy monitored by in situ ellipsometry

Larciprete, R. / Cozzi, S. / Masetti, E. / Montecchi, M.

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Titel:

UHV-CVD Ge/Si(100)heteroepitaxy monitored by in situ ellipsometry

Beteiligte:

Larciprete, R. (Autor:in) / Cozzi, S. (Autor:in) / Masetti, E. (Autor:in) / Montecchi, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 102 ; 52-56

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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