Studies on low temperature silicon grain growth on SiO~2 by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Studies on low temperature silicon grain growth on SiO~2 by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition

Wang, K. C. / Hwang, H. L. / Loferski, J. J. / Yew, T. R.

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Titel:

Studies on low temperature silicon grain growth on SiO~2 by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition

Beteiligte:

Wang, K. C. (Autor:in) / Hwang, H. L. (Autor:in) / Loferski, J. J. (Autor:in) / Yew, T. R. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 104/105 ; 373-378

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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