Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Investigation of the surface of P-implanted LPCVD silicon films

    Neue Suche nach: Plugaru, R.
    Neue Suche nach: Vasile, E.
    Neue Suche nach: Cobianu, C.
    Neue Suche nach: Dascalu, D.
    Neue Suche nach: Balkanski, M.
    Neue Suche nach: Kamimura, H.
    Neue Suche nach: Mahajan, S.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Investigation of the surface of P-implanted LPCVD silicon films

    Neue Suche nach: Plugaru, R.
    Neue Suche nach: Vasile, E.
    Neue Suche nach: Cobianu, C.
    Neue Suche nach: Dascalu, D.
    Neue Suche nach: Balkanski, M.
    Neue Suche nach: Kamimura, H.
    Neue Suche nach: Mahajan, S.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Investigation of the surface of P-implanted LPCVD silicon films

    Neue Suche nach: Plugaru, R.
    Neue Suche nach: Vasile, E.
    Neue Suche nach: Cobianu, C.
    Neue Suche nach: Dascalu, D.
    Neue Suche nach: Balkanski, M.
    Neue Suche nach: Kamimura, H.
    Neue Suche nach: Mahajan, S.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Investigation of the surface of P-implanted LPCVD silicon films

    Beteiligte:

    Plugaru, R. (Autor:in) / Vasile, E. (Autor:in) / Cobianu, C. (Autor:in) / Dascalu, D. (Autor:in) / Balkanski, M. / Kamimura, H. / Mahajan, S.

    Erschienen in:

    Solid-State Materials for Advanced Technology ; 240-242

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 42

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1996

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Investigation of the dosage effect on the activation of arsenic-and boron-implanted low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD) amorphous-silicon films

    Wang, F.-S. / Tsai, M.-J. / Lai, W.-K. et al. | British Library Online Contents | 1996

    Chemical Composition of Silicon Nitride Thin Films Prepared by LPCVD

    Ge, Q.-m. / Liu, X.-j. / Huang, Z.-y. et al. | British Library Online Contents | 2006

    Influence of substrate nature on the microstructure of LPCVD silicon films

    Caussat, B. / Couderc, J. P. / Scheid, E. et al. | British Library Online Contents | 1998

    Effect of hyperthermal annealing on LPCVD silicon nitride

    Jiang, Wanli / Xu, Dehui / Yao, Shaokang et al. | British Library Online Contents | 2016

    Effect of hyperthermal annealing on LPCVD silicon nitride

    Jiang, Wanli / Xu, Dehui / Yao, Shaokang et al. | British Library Online Contents | 2016

    Nach oben