Deposition of CN~x thin films by plasma-activated chemical vapour deposition using various precursors as carbon source: Fid-Bau Portal

Deposition of CN~x thin films by plasma-activated chemical vapour deposition using various precursors as carbon source

Grueger, H. / Selbmann, D. / Wolf, E. / Leonhardt, A.

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Titel:

Deposition of CN~x thin films by plasma-activated chemical vapour deposition using various precursors as carbon source

Beteiligte:

Grueger, H. (Autor:in) / Selbmann, D. (Autor:in) / Wolf, E. (Autor:in) / Leonhardt, A. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 32 ; 2849-2853

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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