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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Surface dopant concentration measurement using the Surface Charge Profiler (SCP) method: characterization of hydrogen and metallic contamination in silicon

    Beteiligte:

    Danel, A. (Autor:in) / Tardif, F. (Autor:in) / Kamarinos, G. (Autor:in) / Weber, J. / Mesli, A.

    Erschienen in:

    Symposium A Detects in Snmon Hy[?] ; 64-70

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 58

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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