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    Titel:

    Void nucleation in metal interconnects: Combined effects of interface flaws and crystallographic slip

    Beteiligte:

    Shen, Y.-L. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 14 ; 584-591

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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