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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Plasma enhanced chemical vapour deposition of SiO"xN"y in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor

    Beteiligte:

    Hofrichter, A. (Autor:in) / Bulkin, P. (Autor:in) / Drevillon, B. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 142 ; 447-450

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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