Microstructural characterisation of TiAl thin films grown by DC magnetron co-sputtering technique: Fid-Bau Portal

Microstructural characterisation of TiAl thin films grown by DC magnetron co-sputtering technique

Padmaprabu, C. / Kuppusami, P. / Terrance, A. L. / Mohandas, E. / Raghunathan, V. S. / Banerjee, S. / Sanyal, M. K.

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Titel:

Microstructural characterisation of TiAl thin films grown by DC magnetron co-sputtering technique

Beteiligte:

Padmaprabu, C. (Autor:in) / Kuppusami, P. (Autor:in) / Terrance, A. L. (Autor:in) / Mohandas, E. (Autor:in) / Raghunathan, V. S. (Autor:in) / Banerjee, S. (Autor:in) / Sanyal, M. K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 43 ; 106-113

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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