Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Structural study of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon carbide films

    Neue Suche nach: Choi, W. K.
    Neue Suche nach: Gangadharan, S.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Structural study of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon carbide films

    Neue Suche nach: Choi, W. K.
    Neue Suche nach: Gangadharan, S.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Structural study of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon carbide films

    Neue Suche nach: Choi, W. K.
    Neue Suche nach: Gangadharan, S.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Structural study of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon carbide films

    Beteiligte:

    Choi, W. K. (Autor:in) / Gangadharan, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 75 ; 174 - 176

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2000

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Hydrogen plasma-enhanced chemical vapour deposition of silicon carbide thin films from dodecamethylcyclohexasilane

    Chiu, H.-T. / Huang, S.-C. | British Library Online Contents | 1993

    Stress in low-temperature plasma enhanced chemical vapour deposited silicon nitride thin films

    Martyniuk, M. / Antoszewski, J. / Musca, C. A. et al. | British Library Online Contents | 2006

    Electrical Characteristics of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposited Silicon Carbide Thin Films

    Pham, H. T. M. / Akkaya, T. / de Boer, C. R. et al. | British Library Online Contents | 2003

    Microstructures of diamond films deposited on (100) silicon wafer by microwave plasma-enhanced chemical vapour deposition

    Jung Ho Je / Lee, G. Y. | British Library Online Contents | 1992

    In situ spectroscopic ellipsometry study of TiO"2 films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition

    Li, D. / Carette, M. / Granier, A. et al. | British Library Online Contents | 2013

    Nach oben