Dynamics of SiO2/SiOx/Si multilayer growth and interfacial effects on silicon quantum well confinement properties: Fid-Bau Portal

Dynamics of SiO2/SiOx/Si multilayer growth and interfacial effects on silicon quantum well confinement properties

da Silva Jr, E. F. / de Vasconcelos, E. A. / Stosic, B. D. / de Sousa, J. S. / Farias, G. A. / Freire, V. N.

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Titel:

Dynamics of SiO2/SiOx/Si multilayer growth and interfacial effects on silicon quantum well confinement properties

Beteiligte:

da Silva Jr, E. F. (Autor:in) / de Vasconcelos, E. A. (Autor:in) / Stosic, B. D. (Autor:in) / de Sousa, J. S. (Autor:in) / Farias, G. A. (Autor:in) / Freire, V. N. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 74 ; 188 - 192

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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