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    Titel:

    SIMS study of oxygen in- and out-diffusion in SIMOX wafers during thermal annealing using 18O implantation

    Beteiligte:

    Hayashi, S. (Autor:in) / Sasaki, T. (Autor:in) / Kawamura, K. (Autor:in) / Matsumura, A. (Autor:in) / Yanagihara, K. (Autor:in) / Tanaka, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 203-204 ; 504-507

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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