Conducting atomic force microscopy studies on local electrical properties of ultrathin SiO2 films: Fid-Bau Portal

Conducting atomic force microscopy studies on local electrical properties of ultrathin SiO2 films

Ando, A. / Hasunuma, R. / Maeda, T. / Sakamoto, K. / Miki, K. / Nishioka, Y. / Sakamoto, T.

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Titel:

Conducting atomic force microscopy studies on local electrical properties of ultrathin SiO2 films

Beteiligte:

Ando, A. (Autor:in) / Hasunuma, R. (Autor:in) / Maeda, T. (Autor:in) / Sakamoto, K. (Autor:in) / Miki, K. (Autor:in) / Nishioka, Y. (Autor:in) / Sakamoto, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 162/163 ; 401-405

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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