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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Chemical vapor deposition of an aluminum nitride-diamond composite in a triple torch plasma reactor

    Beteiligte:

    Asmann, M. (Autor:in) / Cook, R. F. (Autor:in) / Heberlein, J. V. (Autor:in) / Pfender, E. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 16 ; 469-477

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    9 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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