Strain characterisation of shallow trench isolation structures on a nanometer scale by convergent beam electron diffraction: Fid-Bau Portal

Strain characterisation of shallow trench isolation structures on a nanometer scale by convergent beam electron diffraction

Armigliato, A. / Balboni, R. / Frabboni, S. / Benedetti, A. / Cullis, A. G. / Carnevale, G. P. / Colpani, P. / Pavia, G.

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Titel:

Strain characterisation of shallow trench isolation structures on a nanometer scale by convergent beam electron diffraction

Beteiligte:

Armigliato, A. (Autor:in) / Balboni, R. (Autor:in) / Frabboni, S. (Autor:in) / Benedetti, A. (Autor:in) / Cullis, A. G. (Autor:in) / Carnevale, G. P. (Autor:in) / Colpani, P. (Autor:in) / Pavia, G. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 4 ; 97-99

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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