The use of convergent beam electron diffraction for stress measurements in shallow trench isolation structures: Fid-Bau Portal

The use of convergent beam electron diffraction for stress measurements in shallow trench isolation structures

Stuer, C. / Van Landuyt, J. / Bender, H. / Rooyackers, R. / Badenes, G.

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Titel:

The use of convergent beam electron diffraction for stress measurements in shallow trench isolation structures

Beteiligte:

Stuer, C. (Autor:in) / Van Landuyt, J. (Autor:in) / Bender, H. (Autor:in) / Rooyackers, R. (Autor:in) / Badenes, G. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 4 ; 117-119

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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