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    Titel:

    Defect Study on Si Implanted with B and BF~2 Ions by Coincidence Doppler Broadening Measurements

    Beteiligte:

    Akahane, T. (Autor:in) / Fujinami, M. (Autor:in) / Ohnishi, K. (Autor:in) / Sawada, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 363/365 ; 469-471

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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