Damage profiles and damage annealing behavior in Al0.168Ga0.348In0.484P/GaAs implanted with 200 keV Zn+ ions: Fid-Bau Portal

Damage profiles and damage annealing behavior in Al0.168Ga0.348In0.484P/GaAs implanted with 200 keV Zn+ ions

Liu, P. / Liu, X. / Xia, Y. / Li, Y. / Xu, H. / Wang, L. / Zhang, J.

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Titel:

Damage profiles and damage annealing behavior in Al0.168Ga0.348In0.484P/GaAs implanted with 200 keV Zn+ ions

Beteiligte:

Liu, P. (Autor:in) / Liu, X. (Autor:in) / Xia, Y. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in) / Xu, H. (Autor:in) / Wang, L. (Autor:in) / Zhang, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 86 ; 189 - 194

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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