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Low energy plasma enhanced chemical vapor deposition

Kummer, M. / Rosenblad, C. / Dommann, A. / Hackbarth, T. / Hock, G. / Zeuner, M. / Muller, E. / von Kanel, H.

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Titel:

Low energy plasma enhanced chemical vapor deposition

Beteiligte:

Kummer, M. (Autor:in) / Rosenblad, C. (Autor:in) / Dommann, A. (Autor:in) / Hackbarth, T. (Autor:in) / Hock, G. (Autor:in) / Zeuner, M. (Autor:in) / Muller, E. (Autor:in) / von Kanel, H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 89 ; 288 - 295

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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