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    Titel:

    Etch characteristics of HfO2 films on Si substrates

    Beteiligte:

    Norasetthekul, S. (Autor:in) / Park, P. Y. (Autor:in) / Baik, K. H. (Autor:in) / Lee, K. P. (Autor:in) / Shin, J. H. (Autor:in) / Jeong, B. S. (Autor:in) / Shishodia, V. (Autor:in) / Norton, D. P. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 187 ; 75-81

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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