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    Titel:

    Thermodynamical computation and physicochemical characterization of thin films deposited by electric-discharge-assisted chemical vapor deposition

    Beteiligte:

    Sassi, Z. (Autor:in) / Chafik, K. (Autor:in) / Bureau, J. C. (Autor:in) / Glachant, A. (Autor:in) / Balland, B. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 193 ; 26-35

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    10 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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