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    Titel:

    Characteristics of SiOX thin films deposited by atmospheric pressure chemical vapor deposition using a double-discharge system

    Beteiligte:

    Park, J. (Autor:in) / Oh, J. (Autor:in) / Gil, E. (Autor:in) / Yeom, G.Y. (Autor:in) / Boo, J.-H. / Ahn, H.

    Erschienen in:

    Proceedings of the IFFM2011 (2011 International Forum on Functional Materials) and AFM-2 (2nd Special Symposium on Advances in Functional Materials) Jeju island, Korea 28-31 July 2011 ; 3011-3014

    MATERIALS RESEARCH BULLETIN ; 47

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0025-5408

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11 / 620

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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