X-ray photoelectron spectroscopy studies of the effects of plasma etching on amorphous carbon nitride films: Fid-Bau Portal

X-ray photoelectron spectroscopy studies of the effects of plasma etching on amorphous carbon nitride films

Jiang, L. / Fitzgerald, A. G. / Rose, M. J. / Cheung, R. / Rong, B. / van der Drift, E.

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Titel:

X-ray photoelectron spectroscopy studies of the effects of plasma etching on amorphous carbon nitride films

Beteiligte:

Jiang, L. (Autor:in) / Fitzgerald, A. G. (Autor:in) / Rose, M. J. (Autor:in) / Cheung, R. (Autor:in) / Rong, B. (Autor:in) / van der Drift, E. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 193 ; 144-148

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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