Overview of Modern Lithography Techniques and a MEMS-Bases Approach to High Throughput Rate Electron Beam Lithography: Fid-Bau Portal

Overview of Modern Lithography Techniques and a MEMS-Bases Approach to High Throughput Rate Electron Beam Lithography

Chase, J. G. / Smith, B. W.

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Titel:

Overview of Modern Lithography Techniques and a MEMS-Bases Approach to High Throughput Rate Electron Beam Lithography

Beteiligte:

Chase, J. G. (Autor:in) / Smith, B. W. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF INTELLIGENT MATERIAL SYSTEMS AND STRUCTURES ; 12 ; 807-818

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

12 pages

ISSN:

1045-389X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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