Dopant based electron beam lithography in CuxTiSe2: Fid-Bau Portal

Dopant based electron beam lithography in CuxTiSe2

Kidd, T. E. / Klein, D. / Rash, T. A. / Strauss, L. H.

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Titel:

Dopant based electron beam lithography in CuxTiSe2

Beteiligte:

Kidd, T. E. (Autor:in) / Klein, D. (Autor:in) / Rash, T. A. (Autor:in) / Strauss, L. H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 3812-3816

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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