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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Ultrathin silicon oxide film growth with in situ passivation by using pyrolytic N2O

    Beteiligte:

    Yamada, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 21 ; 1493 - 1495

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0261-8028

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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