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    Titel:

    Boron and phosphorous diffusion in ion-beam-sputtering deposited SiGe films

    Beteiligte:

    Ru, G. P. (Autor:in) / Qu, X. P. (Autor:in) / Gu, Q. (Autor:in) / Qi, W. J. (Autor:in) / Li, B. Z. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS LETTERS ; 57 ; 921-924

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0167-577X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.1105 / 530

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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