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    Titel:

    Quantitative depth profiling of SiOxNy layers on Si

    Beteiligte:

    van Berkum, J. G. (Autor:in) / Hopstaken, M. J. (Autor:in) / Snijders, J. H. (Autor:in) / Tamminga, Y. (Autor:in) / Cubaynes, F. N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 203-204 ; 414-417

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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