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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Electrical evaluation of crack generation in SiNx and SiOxNy thin-film encapsulation layers for OLED displays

    Beteiligte:

    Park, E. K. (Autor:in) / Kim, S. (Autor:in) / Heo, J. (Autor:in) / Kim, H. J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 370 ; 126-130

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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